第453章 布局（下）

陈春仙咂舌道：“你懂得可真多啊。”

差一点超过他。

他却不知道，凭借前世当键盘侠时，掌握的那点毛皮，等到他们真的开始研发光刻机时，李建昆说不定时不时还能来记“仙人抚顶”。

比如他知道，第四代光刻机，1986年由ASML率先推出，采用193nmArF激光光源。但在此后将近二十年时间里，业界普遍认为193nm光刻无法延伸到65nm技术节点，因而157nm将成为主流技术，可是157nm光刻技术，又遭遇来自光刻机透镜的巨大挑战，始终不得突破。

等于说，光刻机技术几乎停滞发展二十年。

第453章布局（下）

还没有发生的事情，李建昆自然不好说出来，他只能找别的由头。

“无纺布技术，科院不是早有？一样的道理，他们研发的光刻机成果，主要关在实验室，很难落实到民用。”

他顿了顿，道：“我的意思是，咱们向9003所采购一台最新的光刻机，沿着这个基础，吸纳研究员、培养人才，学习研发，一个目标：赶超世界！

“当然，期间如果有成果，我也会及时孵化出商业价值。据我所知，9003所的二代光刻机，已经能造出一些大规模集成电路。”

直到2007年，ASML和台积电合作研发出浸没式光刻机。技术细节肯定很复杂，但道理其实挺简单——

将193nm的光波浸没在液体中，它的等效波长缩短至134nm，一举超越157nm的极限。

值得一提的是，集成电路的制造，光刻机一直是最优解。

但当下这个年代，许多工厂还没用上光刻机，原因在于他们生产的产品，其中涉及的集成电路，不够复杂——

半导体载体上集成的晶体管数量不多。

像是生产收音机、录音机和电视机的这些个工厂，他们主要还是采用蚀刻电路技术。

蚀刻法的劣势很明显，粗犷、笼统，残品率高，无法应用于高精端的集成电路制作。